ЕТКС | Единый тарифно-квалификационный справочник работ и профессий рабочих |
Выпуск 20 | Полупроводниковое производство |
§ 12 | Оператор вакуумно-напылительных процессов (2-й разряд, 3-й разряд, 4-й разряд, 5-й разряд, 6-й разряд, 7-й разряд) |
Характеристика работ. Напыление различными способами (термическое испарение, катодное распыление, электронно-лучевое и магнетронное напыление) однослойных и многослойных пленочных микроструктур для изделий с субмикронными размерами или с повышенной степенью интеграции с выбором оптимальных режимов напыления в пределах допусков, указанных в технологической документации. Обслуживание установок с программным управлением. Наблюдение за режимами процесса. Работа с измерительной аппаратурой с целью регистрации и поддержания режимов осаждения пленок. Сравнительный контроль качества просветляющих пленок по эталону.
Должен знать: электрические и вакуумные схемы, способы проверки на точность различных моделей вакуумных напылительных установок; конструкцию обслуживаемого оборудования; правила определения режимов работы оборудования для получения металлических, резистивных пленок; правила настройки и регулирования контрольно-измерительных инструментов и приборов; электрофизические свойства взаимодействия полупроводник - металл, металл - металл; основы электротехники и порядок работы вакуумной техники.
Требуется среднее профессиональное образование.
Примеры работ
1. Диски для видиконов - двух-, трехслойное напыление.
2. Линзы из стекла К-8 оптической толщины лямбда/4 - нанесение одного слоя MgFe2 (просветление).
3. МДП-структуры - изготовление молибденового затвора.
4. Пластины C ч As - напыление Ag с подслоем Cr.
5. Пластины стеклянные - напыление маскирующих, кварцевых покрытий.
6. Пластины полупроводниковые (диодные матрицы, СВЧ - транзисторы, БИС, СБИС, ЗУ, стабилитроны) - одно- или двухслойное напыление различными способами.
7. Пленка полистирольная или стирофлексная, конденсаторная бумага - напыление различных металлов на вакуумной установке.
8. Пленки полупроводниковые и контактные площадки - напыление на монокристаллические подложки германия, кремния, арсенида галлия.
9. Подложки кварцевые - нанесение 15 слоев равной оптической толщины лямбда/4 (зеркало с коэффициентом отражения 99%).
10. Приборы квантовые - напыление семи-, одиннадцатислойных зеркал.